삼성전자가 올해 반도체 시설투자에 25조원을 투자했다. 이는 세계 반도체 업계에서 1위에 해당하는 수치다. SK하이닉스도 시설투자 금액이 크게 늘어나 3위를 기록했다.

30일 시장조사업체 IC인사이츠에 따르면, 올해 전세계 반도체 업체의 시설투자 규모는 총 1071억4000달러로 추산된다. 사상 처음 1000억 달러를 넘어설 것으로 예측됐다. 역대 최고치를 기록했던 지난해(934억7700만 달러)보다 15% 늘어났다.

업체별로 살펴보면 삼성전자가 압도적인 1위를 기록했다. 삼성전자는 226억2000만 달러(25조3600억원)로 기록해 전체 비중은 21.1%를 차지했다.

삼성전자 투자액은 지난해(242억3200만 달러) 대비 7% 줄었지만 미국 인텔을 제치고 1위를 차지했다. 인텔은 지난해보다 32% 늘어난 155억 달러(17조3755억원)으로 2위에 올랐다. 

뒤를 이어 SK하이닉스(128억 달러), 대만 TSMC(102억5000만 달러), 미국 마이크론(99억6000만 달러) 순이다.

SK하이닉스는 지난해(80억9100만 달러)보다 58% 증가한 128억 달러를 기록하며 대만 TSMC를 제치고 3위에 올랐다.

업계 일각에서는 과잉투자로 인한 부작용도 우려하고 있다. IC인사이츠는 "지난해부터 이어진 삼성전자의 대규모 투자는 장기적으로 시장에 영향을 미칠 것"이라며 "3D 낸드플래시 시장은 이미 과잉설비투자가 진행됐다"고 지적했다.

이에 메모리 반도체 성장세가 주춤할 것으로 예상되는 내년에는 설비투자를 조절할 것으로 보고 있다. IC인사이츠는 내년에는 주요업체들이 대규모 투자를 줄여 전체 반도체 설비투자액은 945억9000만 달러로 1000억 달러를 하회할 것으로 예상했다.

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